纳米镀膜加工热线
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类金刚石膜是以石墨或碳氢化合物等为原料，在低温低压下人工合成的一种含有SP3和SP2键的非晶碳膜。由于其具有一系列与金刚石相接近的优良性能和结构特征，国内外科技工作者对DLC膜的制备工艺、结构形态、物理测定、应用开拓和专业化生产等方面进行了广泛的研究,采用阳极型气体离子源结合非平衡磁控溅射复合技术的方法，制备Cr过渡层的DLC/wcc塑料膜，并对其膜层性能、界面、结构及成分分布等进行了分析，以期为制备优质的DLC膜积累有用的特性数据。
采用阳极层流型矩形气体离子源，并结合非平衡磁控溅射进行掺钨类金刚石薄膜沉积。主要沉积DLC薄膜:当在磁控靶前面时，主要沉积wcc薄膜和珍珠棉，最终实现DLC/WCC多层膜的制备。
DLC/wcc透明膜(约2200nm)。膜层总厚度约2.7um;显微硬度HV0.025,15为3550，明显高于掺钛类金刚石膜的硬度(HV0.025,15为2577);摩擦因数为0.139(与钢对磨)。
所形成的膜层与软些的Ti6AI4V基体整合优异，刮花角处不存在很明显的崩膜，到52N后才暴露基体，也就是说膜基整合力满足了52N，满足制造业用途化合物镀TiN薄膜和珍珠棉的膜/基整合总体水平。
1、膜层重量2.7μm，抗拉强度为3550HV，与钢对磨时热胀冷缩条件为0.139，在Ti6AI4V钛锰钢上膜/基融入力达52N。
2、WCC/DLC双层以上膜，调配的周期为4nm。
3、DLC/wcc薄膜和珍珠棉仍呈现出类金刚石膜的主要特征
【责任编辑】大家
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